真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜的设备，这种设备在很多大专院校、科研院所都有所应用。那真空离子镀膜原理是什么呢？现在成越科仪就给大家介绍一下。
离子镀膜是真空室中，利用气体放电或者被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时，将蒸发物或反应物沉积在基片上。
离子镀膜把辉光放电现象，等离子体技术以及真空蒸发三者有机结合起来，不但可以明显的改进膜质量，而且还扩大了薄膜的应用范围。其优点是薄膜附着力强，绕射性好，膜材广泛等。
D.M.首次提出离子镀膜原理，其工作过程是：先将真空室抽至4×10-3帕以上的真空度，再接通高压电源，在蒸发源与基片之间建立一个低压气体放电的低温等离子区。基片电极接上5KV直流负高压，从而形成辉光放电阴极。辉光放电区产生的惰性气体离子进入阴极暗区被电场加速并轰击基片表面，对其进行清洗。然后进入磁控溅射镀膜过程，加热使镀料气化，起原子进入等离子区，与惰性气体离子及电子发生碰撞，少部分产生离化。离化后的离子及气体离子以较高能量轰击镀层表面，致使膜层质量得到改善。
离子镀膜种类非常多，蒸发源加热方式主要包括电阻加热、电子束加热、等离子电子束加热、高频感应加热等。
成越科仪产有多款真空镀膜机，比如实验室高真空蒸发镀膜机CY-1800-ZF4、小型热蒸发镀膜机CY-1100X-15、磁控溅射镀膜机CY-700-MSD等等。成越科仪生产的真空镀膜机不管是性能还是质量都有较好的保障。成越科仪愿为全球客户提供品质高端、安全可靠以及多样化的实验室解决方案。
离子镀膜是真空室中，利用气体放电或者被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时，将蒸发物或反应物沉积在基片上。
离子镀膜把辉光放电现象，等离子体技术以及真空蒸发三者有机结合起来，不但可以明显的改进膜质量，而且还扩大了薄膜的应用范围。其优点是薄膜附着力强，绕射性好，膜材广泛等。
D.M.首次提出离子镀膜原理，其工作过程是：先将真空室抽至4×10-3帕以上的真空度，再接通高压电源，在蒸发源与基片之间建立一个低压气体放电的低温等离子区。基片电极接上5KV直流负高压，从而形成辉光放电阴极。辉光放电区产生的惰性气体离子进入阴极暗区被电场加速并轰击基片表面，对其进行清洗。然后进入磁控溅射镀膜过程，加热使镀料气化，起原子进入等离子区，与惰性气体离子及电子发生碰撞，少部分产生离化。离化后的离子及气体离子以较高能量轰击镀层表面，致使膜层质量得到改善。
离子镀膜种类非常多，蒸发源加热方式主要包括电阻加热、电子束加热、等离子电子束加热、高频感应加热等。
成越科仪产有多款真空镀膜机，比如实验室高真空蒸发镀膜机CY-1800-ZF4、小型热蒸发镀膜机CY-1100X-15、磁控溅射镀膜机CY-700-MSD等等。成越科仪生产的真空镀膜机不管是性能还是质量都有较好的保障。成越科仪愿为全球客户提供品质高端、安全可靠以及多样化的实验室解决方案。