延展过滤支撑网：半导体微电子行业高温腐蚀环境解决方案

在半导体行业，随着技术的不断进步和芯片尺寸的缩小，对生产环境的纯度和清洁度要求日益严苛。半导体制造过程涉及多个关键工艺环节，包括但不限于光刻、蚀刻、沉积、离子注入和化学机械研磨等。这些环节对环境中的微粒、化学污染物和金属杂质的控制极为重要，因为这些污染物的存在会严重影响芯片的性能和生产良率。
为了确保生产环境的高纯度，半导体工厂必须采用先进的过滤系统，以有效去除生产过程中涉及的液体和气体介质中的颗粒物、化学蒸气和气体杂质。这些过滤系统必须能够承受极端的化学反应条件和高温环境，因为半导体制造工艺常常在这些苛刻条件下进行。因此，过滤材料必须具备卓越的耐化学性和耐高温性，以确保在这些极端条件下也能提供持续稳定的过滤性能。

Dexmet延展过滤支撑网是专为半导体微电子行业等苛刻环境设计的高性能过滤解决方案。采用精密制造技术，精确控制滤网的厚度、孔径和图案，满足高精度过滤需求。主要材料为耐化学和耐高温的PFA和PTFE，确保在极端条件下提供持续稳定的过滤性能。Dexmet支持高度定制化，以优化超细膜层结构，防止变形，保持过滤效率。定制化能力使其成为满足特定应用需求的理想选择。
与此同时，Dexmet延展过滤支撑网作为增强过滤膜支撑材料，在终端过滤折叠式或螺旋缠绕滤芯中作为分离层/进料层/排水层，发挥关键作用。
Dexmet延展过滤支撑网的特点
强化微粒过滤与污染控制：通过精密的网眼结构，有效拦截微粒和污染物，从而减少晶片污染并提升半导体产品的质量和良率。
均匀的化学品分布与流动一致性：确保在半导体制造过程中化学品和气体的均匀分布和稳定流动，对于材料的均匀沉积和蚀刻过程至关重要。
动态流动条件下的稳定性和耐用