只有通过在分子水平上检测不同真空程度的差异,才能领会实现和运用高真空(HV)、超高真空(UHV)和极高真空(XHV)是一项多么困难的工作。
在粗真空和中真空中,主要的气体来源是腔体出气或原有气体;而在HV和UHV中,气体主要由腔体表面气体脱附产生的放气所导致;在XHV中,气体主要来自腔体壁和用其他材料的气体渗透。
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高真空、超高真空和极高真空都在什么范围?
XHV的压力范围通常大于10-12mbar,UHV在10-7到10-12mbar之间,而HV则在10-3到10-7mbar之间。XHV与地球同步轨道卫星所处的真空水平相当;UHV是高能物理和核子研究(例如在CERN和KATRIN进行的研究)所必须达到的真空水平;HV则在工业和科学研究中用得比较多。
在粗真空和中真空中,主要的气体来源是腔体出气或原有气体;而在HV和UHV中,气体主要由腔体表面气体脱附产生的放气所导致;在XHV中,气体主要来自腔体壁和用其他材料的气体渗透。
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