作为新手,对于谱图的拟合有很多的疑惑。几年前作为新手的我也同样对谱图的拟合存在很多的困惑。总是想弄清楚数据的拟合究竟应该遵循什么的准则。这几年经过与专家的多次交流,我们组总结了谱图拟合的基本规则:
- 元素结合能数据可参考http://srdata.nist.gov/xps/selEnergyType.aspx
- 谱峰的曲线拟合应考虑:合理的化学与物理意义;合理的半高宽(一般不大于2.7eV,氧化物的半高宽应大于单质的半高宽);合理的L/G比(XPS Peak 41分峰软件中的% Lorentzian-Gaussian)为20%左右;对双峰还应考虑两个峰的合理间距、强度比等(详见下面的3,4项)。
- 对于p、d、f等能级的次能级(如p3/2、p1/2,光电子能谱中一般省略/2,即为p3、p1)强度比是一定的,p3:p1=2:1;d5:d3=3:2,f7:f5=4:3。在峰拟合过程中要遵循该规则。如W4f中同一价态的W4f7和W4f5峰面积比应为4:3。
- 对于有能级分裂的能级(p、d、f),分裂的两个轨道间的距离(doublet seperation)也基本上是固定的,如同一价态的W4f7和W4f5之间的距离为2.15eV左右,Si2p3
