1.前段工位
ITO 玻璃的投入(grading)
玻璃清洗与干燥(CLEANING):不干净的玻璃容易形成浮胶
涂光刻胶(PR COAT) :各层依次为玻璃、ITO层、光刻胶层
前烘烤(PREBREAK)
曝光(DEVELOP):UV光照射图形掩模版
显影(MAIN CURE):用显影液除去光照反应后的光刻胶
坚膜:显影处理后,必须流程,以使保留下的光刻胶更加坚固,需要一定的温度
蚀刻(ETCHING) :去除无光刻胶保护的ITO膜,得到ITO电极图形
去膜(STRIP CLEAN):除去未腐蚀的光刻胶
图检(INSP)
清洗干燥(CLEAN)
TOP 涂布(TOP COAT):一般的TN 与STN 产品不要求此步骤,TOP 膜的涂布工艺是在光刻工艺之后再做一次SiO2 的涂布,以此把刻蚀区与非刻蚀区之间的沟槽填平并把电极覆盖住,这既可以起到绝缘层的作用,又能有效地消除非显示状态下的电极底影,还有助于改善视角特性等等,因此大部分的高档次产品要求有TOP 涂布。
UV 烘烤(UV CURE)
固化(MAIN CURE)
清洗(CLEAN)
涂取向剂(PI
PRINT):液晶显示器生产的特有技术,保证液晶分子能够在取向层表面沿着特有的方向取向(排列),通常在显示区进行Coating。
固化(MAIN CURE) :高温固化取向层
取向摩擦:用绒布材料定向摩擦取向层表面,如TN型液晶取45°角方向
清洗(CLEAN):清洗绒布残留
下面步骤为空盒制作,此步工
ITO 玻璃的投入(grading)
玻璃清洗与干燥(CLEANING):不干净的玻璃容易形成浮胶
涂光刻胶(PR COAT) :各层依次为玻璃、ITO层、光刻胶层
前烘烤(PREBREAK)
曝光(DEVELOP):UV光照射图形掩模版
显影(MAIN CURE):用显影液除去光照反应后的光刻胶
坚膜:显影处理后,必须流程,以使保留下的光刻胶更加坚固,需要一定的温度
蚀刻(ETCHING) :去除无光刻胶保护的ITO膜,得到ITO电极图形
去膜(STRIP CLEAN):除去未腐蚀的光刻胶
清洗干燥(CLEAN)
TOP 涂布(TOP COAT):一般的TN 与STN 产品不要求此步骤,TOP 膜的涂布工艺是在光刻工艺之后再做一次SiO2 的涂布,以此把刻蚀区与非刻蚀区之间的沟槽填平并把电极覆盖住,这既可以起到绝缘层的作用,又能有效地消除非显示状态下的电极底影,还有助于改善视角特性等等,因此大部分的高档次产品要求有TOP 涂布。
UV 烘烤(UV CURE)
固化(MAIN CURE)
清洗(CLEAN)
固化(MAIN CURE) :高温固化取向层
取向摩擦:用绒布材料定向摩擦取向层表面,如TN型液晶取45°角方向
清洗(CLEAN):清洗绒布残留
下面步骤为空盒制作,此步工
