冷氢化技术综述
(上)
朱骏业 岳菡
张永良
20世纪70年代美国喷气推进实验室(JPL)在美国能源部的支持下组织研究新硅烷法工艺过程中,采用多晶硅工厂的副产物四氯化硅(STC)作原料,将其转化为三氯氢硅(TCS),然后将三氯氢硅通过歧化反应生产硅烷。
80年代初,为得到低成本、高纯度的多晶硅,又进行了一系列的研究开发。其中高压低温氢化工艺(以下简称冷氢化)就是一项能耗最低、成本最小的STC转化为TCS的工艺技术。该工艺被UCC(Union
Carbide
Corporation)公司在80年代中后期进一步的完善,实现了从实验装置到工业化运行的跨越,目前REC在华盛顿州的多晶硅工厂所采用的此项工艺仍在运行中。因此,毋庸置疑,冷氢化技术的原创应当是UCC,目前流行的各类流化床冷氢化工艺只是在UCC的基础上“整容,而非变性”(易中天语)!
90年代,为了提高多晶硅产品纯度,满足电子工业对多晶硅质量的要求,开发了高温低压STC氢化工艺,这两种工艺的比较如下:
(上)
| 项目名称 |
高温低压热氢化 |
低温高压冷氢化 |
| 操 |
