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铜电解沉积过程中阴极过电位影响因素研究进展陈正奎(西藏玉龙铜业股份有限公司,西藏昌都85400

2018-03-23 19:05阅读:
摘 要:铜电解沉积过程中,阴极过电位大小决定了铜结晶的粗细程度,高电流密度下提高高纯阴 极铜产率,加强阴极过电位的控制非常关键。通过在铜电解过程 中阴极过电位控制方面的研究工 作,讨论了几种影响阴极过电位因素。以提高高纯阴极铜产率为 目标,分析了电流密度、添加剂、阳 极质量及电解液温度等因素对阴极过电位的作用机理,并讨论了各因素的影响规律。 关键词:铜 电解;阴极过电位;阴极铜质量;研究进展 中图分类号:TF I11.52 文献标识码:A 文章编号:1003 —5540(2015)05 —0033 —05 铜电解是 电化学作用下铜离子从 电解液中沉积 出来形成金属晶体的过程 ,其包括晶体形成和长大 两部分,两者皆在电场作用下完成,容易受到阴极表 面状态、电极附近溶液物化性质和阴极极化作用等 因素的影 响 J 。电解溶液 中金属 离子能否还原 , 取决于其对应 阴极 电位 ,但平衡 电位下晶核不能形 成 ,电沉积不能发生 ,阴极极化到一定量对平衡 电位 发生偏差时电结 晶才可进行 。阴极极化程度 即阴极 过 电位大小决定 了电结 晶层 的粗细程度 ,阴极过 电位越高 ,晶核越容易形成 ,数量越多 ,沉积层越致 密 ;反之 ,阴极过 电位小 ,晶核 形成较 为 困难 ,晶粒 粗大。 电流密度是铜电解精炼中最主要的技术指标之 一, 和阴极铜产量成线性关 系,提高 电流密度可以在 基本不增加设备 的情况下 ,提高阴极产量 。然电 流密度的提高,虽可一定程度上提高阴极过电位,但 由于铜的阳极溶解和 阴极沉积速度加快 ,造成 阳极 的不均匀溶解 和阴极 的不均匀沉积 同步加剧 ,阳极 泥容易沾附于阴极表面 ,造成 阴极铜表面粗糙、结构 疏松、长粒子现象严重 ,高纯 阴极铜产率 降低 J 。提 高铜电解生产能力 的同时保证高纯 阴极铜产率 ,需 加强对阴极过电位控制方法的研究 。本文结合铜电 解过程 中阴极过 电位控制方面 的研究工作 ,总结 了 近年来阴极过电位影响因素研究的进展情况 。 作者简 介 :陈 正奎 ( 1984 一) ,男 ,助理工 程师 ,现 从事湿 法提 铜冶炼 工作 。 1 铜电解过程中阴极过电位影响因素 研究进展 1.1 电流密度对阴极过电位的影响 铜 电解过程 中阴极过 电位不是一个定值 ,其 与 电流密度直接相关 ,呈简单正
向对数关系。电流密 度较小或扩散速度相当大情况下 ,电极反应处于电化 学动力学区,阴极过 电位数值较小 ;高电流密度情况 下 ,反应速度增加较快,扩散传质成为电极反应 限速 步骤 ,反应进人扩散动力学 区,电流密度增大阴极沉 积速度却相对稳定,所对应 电流密度 为极 限 电流密 度。生产 中电极反应一般处于混合动力学区域 ,该区 域内电化学反应速度和扩散速度具有可相比拟数值。 昆明理工大学 吕玉 国、李坚等在研究中发现 J , Cu“ 浓度 50.43 L 、H2SO4浓度 180 g/L 、电解液温 度 30 —70 ℃条 件下 ,电流密度 增加 阴极 过 电位增 大,同时铜离子浓度和电解液温度升高时体系的去 极化 作用增强 ,阴极过 电位减 小 ,交换 电流密度增 大。在铜 电解生产 中,体 系的极化 主要是 电化学极 化 ,但同时也存在扩散所引起 的浓差极化。升高温 度对铜的去极化作用明显 ,使 cu 的析 出电位 向更 正的方向发展 ,然其对于电解液 中砷、锑等杂质元素 的过 电位变化影响较为微弱。同温度下电流密度提 升 ,砷、锑的阴极过电位增加剧烈 ,使砷 、锑 的析出电 位较铜要更负 更难以析出,其从理论上 解释了阴 极铜 中砷 、锑等杂质元素是 以漂浮阳极泥 的形式夹 杂于铜晶粒中的¨U.“ J 。模 拟 目前铜 电解生产工艺 , 湖南有 色金属 第31 卷 电流密度控制为 200 ~300 A/m2,张文琳 、李坚等对 工艺中铜的过电位进行了测试 ,得出无添加剂条件下 阴极过电位约在 27~35 mV 之间,加入一定量常用添 加剂后,铜的其阴极过 电位值一般也不会超过 50 mV 。 一定范围内提高铜 电解过程 中电流密度 ,可增 大阴极过电位 ,使 电极表面 的结 晶活性点增多 ,进而 使铜电沉积过程 中晶粒细小 、结构致密且金属 光泽 度好 ,然电流密度过高时 ,阴极附近铜离子浓度贫化 严重,离子扩散成为电极反应限速环节 ,阴极铜沉积 过程中晶粒择优取 向明显、表面长瘤现象严重。朱 福 良、张峰等在研究 中发现电解液温度为 50 、铜 离子浓度 4O g/L 、明胶 30 mg/L 、硫脲 30 mg/L 条件 下 ,电流密度由 150 A/m 增至 200 A/m2 时,阴极铜 质量改善 明显 ,然其进一步增加至 300 A/m 时 ,阴 极铜晶粒则变得较为粗大、韧性较差且表面结瘤较 多 引,郑雅杰等的研究 也很好的验证 了这一点 。 增加电解工艺单槽产能 ,大幅度提高电流密度 与保证高纯阴极铜产率存在矛盾 ,解决此矛盾须改 变添加剂加入量 、提高阴阳极板加工质量或采用周 期反向电流法 引,然周期反 向电流法电流效率较低 导致吨铜耗 电量大 ,我 国用 电紧张不宜采用。探索 添加剂对阴极过电位的影响规律十分必要。 1.2 添加剂对阴极过电位的影响 铜电解过程中,为使 阴极铜表面光滑、平整、避免 粒子生长,加入一定量添加剂必不可少 ,一定程度上 可增强阴极极化增大 阴极过 电位,最 终使铜结晶致 密、光滑 ,常用添加剂主要有明胶 、硫脲和盐酸等 。 1.2.1 明胶 对 阴极过 电位 的影 响 目前 ,对电解过程中明胶作用机理的研究主要 有以下两种观点 :一种认 为,明胶在酸性 电解 液 中水解为带正 电荷的 H 十NCHRCOOH ,其在阴极活 性点上被有效吸附,减慢晶体 的继续成长速度 ,电化 学极化增大 ,同时结合它的表面吸附作用 降低 电沉 积表面能 ,使新晶核不断形成 ,进而改善阴极表面质 量 ;另一种认为 ,明胶在电解液中与铜离子生成吸附 络合物,形成正电性载胶体 ,并受到静 电引力趋 向阴 极 ,载胶体 中 Cun 不直接在 阴极 上析出 ,其首 先从 络合物上解析 ,随后才在阴极上进行放电析 出,使无 添加剂作用下 Cu¨ 的放电过程得到延缓 ,阴极极化 作用增强 ,晶核生长速度得到抑制 ,相应 晶核生成速 度有所增加 ,最后使铜的电结晶光滑、细密。然胶体 在电解液中浓度过高时 ,胶粒直径增大 ,降低 了胶粒 总面积 ,胶粒对 cu“ 的吸附作用减弱 ,大量 的 cu“ 不能成为载胶体,电析过程就恶化。 cu 4O g/L ,H SO 177 g/L 电解液体系下 ,舒余 德采用动电位法测定了不同明胶浓度下的阴极极化 曲线 ,发现随明胶浓度增加 ,极化 曲线显著 向阴极方 向移动 ,即明胶 能使铜 电极反 应 电化学极 化增 加 ,明胶浓度由0 升至 40 mg/L ,阴极过电位增加 ,然 明胶浓度大于 40 mg/L 并继续增加 时,阴极 过电位 几乎不随明胶浓度增加而变化 ,其在研究 中指出这 是 由于明胶 吸附浓度饱 和造成的。唐文 忠¨ 等亦 在相同体系 Cu¨ 4O g/L ,H:SO 177 g/e 中测定了不 同明胶浓度下的阴极过电位( 见表 1) ,与舒余德研 究 中所反映得递增规律一致。 表 1 明胶浓度(p) 对阴极过电位( ) 的影响 明胶浓度 p/mg·L I1 10 20 30 40 阴极过 电位 叼k/mV 30 52 关于 明胶 的作用时效规律 ,昆明理工大学 吕玉 国、李 坚等 则在 研究 中发现 :明胶 添加 时 间 15 ~ 30 min阴极极化较弱,3O ~60 min 极化最强 ,此时明 胶分子量分布范围广 ,阴极铜质量好 ,超过 1 h,明胶 分子梯度变小,阴极极化程度降低,超过24 h 后明胶 对阴极的极化作用完全消失¨ 。因此 ,一般电解工 艺中,保证高纯阴极铜产出效率,明胶一般通过计量 泵采用连续加入方式添加到电解液中。 明胶单独作用于 电解过程时 ,对 阴极 过电位 的 降低和阴极质量 的改善相对有限 ,一般采用多种 添 加剂复合加入。鲁道荣等对多种添加剂在 电解精炼 中的电化学行 为进行 了研究¨ ,发现 :添加剂 Cl一、 明胶 、( NH ) cs ( 硫脲 ) 单独作用于 电解过程时 ,阴 极电流密度介于 400 ~1 100 A/m ,CI一对铜沉积反 应起去极化作用 ;阴极 电流密度大于 50 A/m ,明胶 对铜沉积反应起强烈极化作用,且极化程度随明胶 浓 度 增 大 而 加 强 ;电 流 密 度 大 于 450 A/m , ( NH ) cs ( 硫脲 ) 能使铜沉积反应产生 由扩散控制 的极限电流,且极限电流密度随( NH ) :CS( 硫脲 ) 浓 度增加而降低;C1一、明胶、( NH:):cs( 硫脲) 共存于 电解液中时 ,整体对铜沉积反应起强烈的极化作用 , 且极化作用随添加剂浓度增加而加强,即多种添加 剂共 同作用时阴极 过电位可大 幅度提高 ,有利于铜 电解工艺的顺利进行 。 1.2.2 硫 脲对 阴极过 电位 的影 响 硫脲为铜 电解厂常用添加剂,属表面活性物质 , 与明胶混合使用 ,可以细化铜电结晶晶粒 ,可在阴极 液层 或 在 阴 极 表 面 生 成 cu:s 或 络 合 物 [ cu 第 5 期 陈正奎 :铜 电解沉积过程 中阴极过 电位影响因素研究进展 35 ( N:H4CS ) ] SO ,进 而 对 阴 极 结 晶过 程 产 生 影 响 ’加] 。彭楚峰[2¨ 等研究 了硫脲对 阴极铜 结晶的 影响 ,发现电解液明胶浓度一定 时 ,硫脲浓度增加 , 晶粒逐渐细化 ,并测定 了不 同硫脲 浓度时的稳 态极 化曲线,发现低过电位下(低于 40 mV ) 电解液中含 有硫脲和不含硫脲时阴极极化曲线的塔菲尔斜率不 变 ,说明硫脲对 阴极 过程的影 响是通过硫脲在 阴极 表面的吸附实现的。 有关研究表 明_22 J ,硫脲浓 度低 于 10 mg/L 时, 对阴极有一定去极化作用 ( 见表 2) ,朱祖泽等亦 指 出硫脲浓度 1~5 mg/L 、电流密度高于 200 A/m ,阴 极过电位比不加硫脲降低较为明显,原因是硫脲浓 度较低时 Cu S 活性晶核生成量增加 ,对 阴极产生去 极化作用,造成阴极有效电流密度降低和阴极极化 程度降低 。硫脲浓度达到 10 mg/L 以上 时,阴极 极 化 迅 速 增 加 ,此 时 络 合 物 阳 离 子 [ cu ( N H CS) ] 在阴极液层 中形成胶膜 ,使得 cu 在 阴极放电产生 困难 ,阴极极化程度增 加。阴极过 电 位超过 100 mV 时,硫脲有促进阴极沉积物生长突瘤 的作用 ,不利于铜 电解精炼过程 的顺利进行 。因 此,硫脲在低浓度时,对铜沉积速率起促进作用(增 多铜沉积活性 晶核点) ,而高浓度 时对铜沉积过程起 抑制作用 ( 减少铜沉 积反应速率常数 ) ,且 随硫脲浓 度增加 ,极 限电流密度 、交换 电流密度都逐渐减少。 表 2 电解液 中不 同浓度硫脲对铜沉积反应 电化学 参数影响 1.3 阳极质量对阴极过电位的影响 铜 阳极 由火 法精炼浇铸 而成 ,一般要求其 中铜 含量在 99%以上,并对杂质含量要求严格,特别是 Pb、0 、As 和 Sb 等可引起阳极钝化或 阴极质量恶化 的杂质种类 。电解过程 中,阳极组分发生剧烈 化学 及物理反应 ,对 阳极 电位 、阴极过 电位、阴极铜 质量 及电解液物化性质等产生重大影 响,阳极各组 分行 为主要 由其 自身电位 、阳极含氧量、电解液流动方式 等决定。其中,锌、铁、镍等比铜显著电负性的元素 电解过程中以离子形式进入 电解液 ,但并不在 阴极 与铜共沉积 ;金 、银等 比铜显著正 电性 的元素在电解 过程中以分散细粒状掉落槽底形成 阳极泥 ;砷 、锑、 铋等与铜电位相近 的元素 ,其在 阳极上与铜共 同离 解进入电解液且可能在阴极与铜共 同析 出;氧 、硅等 非金属元素多和其它元素形成化合物进 入 电解液 , 造成电解液粘度升高或相互黏附组成 漂浮阳极 泥 , 不利于电解工艺的顺利进行 。 阳极质量对阴极过电位 的影响主要通过电解过 程中所形成的 阳极泥对阴极表面的吸附发生 ,漂浮 阳极泥附着后可在阴极 表面形成铜 电结 晶晶核 ,并 优先长大,导致阴极过电位降低 ,阴极铜的晶粒均匀 性、表观平整度及韧性 等皆受较大程度影 响 J 。金 昌冶炼厂王中月等在处理高镍 、砷 、锑 阳极铜 的研究 中指 出,在传统 电解液净化基础上不附加深度 除杂 工序易带来 阳极钝化 、电解液 中漂浮阳极 泥大面积 出现和 阴极 铜 品位 及表 观质 量不合 格等 后果 J 。 云南铜业黄太祥 、华宏全对铜 阳极板 中杂质 氧元 素 的活动特征进行 了研究 ,发现氧的存在 可使极板 中 部分铜、镍等元素以 Cu 0 和 NiO 的形式进人电解液 形成漂浮阳极 泥,并 最终 导致阴极铜长粒子现象严 重 J ,铜 电解精炼过 程 中,采取相关 措施控制漂浮 阳极泥的产生非常重要。铜阳极泥的组成和产量取 决于铜阳极组分和电解技术条件,其生成一般可归 纳为以下三类 :( 1) 电解过程 中铅 、锡等 电负性较 强元素进入 电解液后生成难溶性盐类 ,沉淀后形成 阳极泥 ,同时镍 在阳极含 氧量 高的情况下亦 以氧化 物的形式进入阳极泥;(2) 金、银等在电解过程中以 分散细粒状掉落槽底形成 阳极泥 ;( 3) 砷、锑等与铜 电位相近并稍显 电负性 的元素 ,电解过程 中由于过 电位 原 因无 法 在 阴极 沉 积 以 As¨ 、As¨ 、Sb¨ 和 Sb¨ 离子形态存在 于电解液 中,并形成溶解度较小 的絮状氧化物 ,不易沉降成为漂浮阳极泥 ,可大量粘 附于铜 阴极表面,降低 阴极过电位。 因此 ,提高高纯阴极铜产率 ,需有效控制漂浮 阳 极泥产率和其在 电解液 中的分布 ,方法为 降低铜 阳 极杂质含量并进行电解液深度絮凝 、除杂等。 1.4 其它因素对阴极过电位的影响 电解工艺中,电解液温度、硫酸和铜离子浓度等 都可对阴极过电位产生影响,进而影响阴极铜生产。 铜电结晶过程 中,晶核形 成速率 Ⅳ、电流密度 i 湖南有色金属 第 3l 卷 以及 Cu 浓度 C满足如下关系式 : N = ” big ct_ _ ( 6) 上式表明,随着 电流密度的增加和离子浓度的 降低 ,晶核形成速率增加 ,从而获得更加致密的阴极 铜。因此电解液中铜和酸浓度的增加,将分别使电 解液浓差极化减少和导电性增加,从而将使阴极过 电位降低( 见表 3l1 ) ,不利于阴极铜质量的提高。 表 3 铜和酸浓度与阴极过电位 的关系 浓 度 阴极过 电位 ' r/k/mV /s·L一 ■ — — — — C u“ 50. 46 52.12 52 .67 53.67 54 .78 55.98 H2SO4 一 一 一 156.18 174.03 183.04 然对于同一个 系统 ,铜 、酸浓度变 化相对稳定 , 其对阴极 过电位 的影响相对 于添 加剂 的影 响小的 多。同时,铜精炼的电解液中存在许多杂质离子 ,可 直接影响阴极铜沉积反应。鲁道荣采用稳态法与循 环伏安法研究 了电解液 中的杂质铁 、镍 、锌离子在铜 电解精炼中的电化学行为 j ,结果表 明 :电解液 中 的杂质铁、镍 、锌离子能降低 阴极铜沉积反应 的交换 电流密度和极 限电流密度 ,可对 阴极铜沉积反应起 极化作用。另外 ,电解液温度升高可对 阴极产 生较 强的去极化作用,降低阴极过电位。 2 结 论 铜电解过程中,沉积物形态主要 由阴极过 电位 决定 ,阴极过 电位越高 ,晶核形成数量越多 ,沉积层 越致密 ;反之 ,阴极过 电位较小时 ,晶核形成较为 困 难 ,晶粒粗 大。阴极过 电位大小 与 电流密度 、添加 剂 、阳极质量 、电解液温度等密切相关 ,一定 范围内, 电流密度升高阴极过电位增大,然其达到极限电流 密度时,电沉积反应 由电化学控制区转变为扩散控 制区 ,阴极过 电位不再随电流密度增加而增加 ;明胶 和硫脲对阴极 过电位的影响主要是通过 与 cu 络 合形成络合离子对阴极表面的吸附作用或 自身水解 形成正电性离子吸附在阴极活性点对铜离子放电过 程的减慢实现 的,一定 范围内两者添加量增加时 阴 极过电位均增大 ,有利于高纯 阴极 率的提升 ,过多时 则造成阴极沉积效果恶化 ;另外 ,电解工艺 中,电解 液温度 、铜酸离子浓度均对阴极过电位有一定影 响, 电解液温度升高 ,阴极去极化效应增强 ,铜和酸离子 浓度增加 ,电解液浓差极化减少和导电性增加 ,阴极 过电位降低。

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