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高真空卷绕镀膜机图纸

2013-11-11 14:50阅读:
高真空卷绕镀膜机

一、设备用途及特点:
本系列设备具有运行平稳、收放镀膜平齐、膜层均匀、生产周期短、能耗低、操作维护方便、性能稳定等特点
利用磁控溅射卷绕镀膜,可实现在多种柔性基材上的真空卷绕镀膜,如各种棉纺织品、化纤布、无尘布、矿物纤维布或其他柔性复合卷材等表面制备的导电薄膜,金属化织物。可用作电磁屏蔽或除静电材料。或用于制备包装膜,电子膜,ITO薄膜,汽车贴膜,建筑贴膜等多种功能性薄膜。
1高真空分子泵真空系统:极限真空(空载、干燥、洁净):优于 2.0×10-4Pa
2恢复真空时间:从大气抽到 4×10-1pa优于15min
4、最大卷径:F400mm 基膜宽度800mm
,溅镀有效宽度800mm
5常用镀膜速度:120m/min 动态数字显示速度
6卷绕张力20100N可调
7、配有矩形磁控溅射靶 3 (其中:中频靶2只、射频靶1只)磁控电源 2 套,镀膜效率高,膜层均匀性好。镀层均匀性±10%
8、卷饶系统采用高精度交流变频调速,具有运行平稳、速度高、对原卷材不划伤,收卷端面整齐等特点;卷绕方式:可实现正、反转功能。
9、张力控制采用数字张力控制系统,具有张力、线速度恒定,动作快速的特点;
10采用自动/手动逻辑控制系统,方便工艺摸索、操作灵活。
11溅镀区域:整个膜宽度范围(溅射辊水冷)
12真空室配有镀膜辊(载冷剂442溶液)防止镀膜过程中样品因温度过高而变形或损坏。
13充气采用质量流量计控制。
14整机结构紧凑、抽真空速度快、能耗低、产能大、设备性能稳定、操作方便等优点
15、设备配有条形离子清洗源,在镀膜过程同时实现在线离子清洗,有效的改善了被镀工件的浸润性、增加了薄膜的附着力,避免了镀膜工件带静电而造成易造成的崩膜,还可以有效的避免镀膜工件针孔的出现,大大提高了镀膜质量。
16、采用远红外在线测试装置。
17、采用进口监控摄像头,对工件卷绕情况进行时时监视和控制。
18PLC控制, PLC加触摸屏。
19断膜紧急保护
20冷却系统自动控制
21适应基材及厚度:纤维、薄膜材,10~300μm

22卷芯材料:金属、塑料或高强度纸
23溅镀方式:单面
24防返油分子筛过滤器一只
二、设备性能技术指标
2.1 卧式真空不锈钢材质,真空室配有放卷辊收卷辊、张力辊、导向辊、镀膜辊等组成;收卷辊、放卷辊、水冷辊各由一台电动机驱动;真空室侧面3套观察窗方便镀膜后的各种检测;真空室门装在移动小车上,收/放卷辊采用气胀轴方便装/卸料。
2.2 形磁控溅射靶 3 套,强磁带有水冷式,可同时镀膜,实现纤维全覆盖,配备大功率电源,镀膜效率高,膜层均匀性好 ;三只靶位置分布见附图.
2.3 膜卷均匀区尺寸:一次放进纤维卷一卷均匀全覆盖。
2.4 真空系统:两台分子泵为主泵和阀门、真空管道及波纹管、机械真空泵(前级泵)等组成高真空抽气系统,可获得(10-2~10-4Pa)的工作真空度。
2.5 气路系统:3 气体质量流量控制器 工作气体高纯Ar、N2 99.9%
量程 :1000SCCM/500SCCM 七星华创 2台
电磁截止阀、混气室及其他不锈钢管路等;
2.6 水冷系统: 全套循环水能系统
进、出水路分配、管路及球阀
水压控制及检测、报警系统
冷却循环水机:AC-3
2.7 控制系统:手动、自动逻辑控制系统。
主要控制:真空机组、真空显示、转速控制、进气、水冷报警报警系统等。
2.8 其他辅助系统:
机架及电控柜、总供电及控制、电缆等
3﹑设备工作环境
3.1 供电:三相四线 AC380V,配制 50KW 以上的三相四线制供电线路到达设备现场。
3.2 实验室要有独立地线:<3W从设备到地线连接建议采用³10mm2的扁平铜线;
3.3 供水:流量³10L/min,水温£25;(已经配有循环水机)
3.4 磁控溅射需要的高纯氩气、一瓶;
3.5 室内相对湿度:<75%;室内无大量尘埃,无腐蚀性、易燃易爆气体;
3.6 设备占地面积:长×宽×高 5000mm×4500mm×3000mm。
4﹑设备主要配置
序号

部件名称
参数
数量
生产厂家
1
真空室
真空室
卧式真空室不锈钢材质
1套

镀膜辊
Φ400mm 普冷
1
收、放卷辊
采用气胀轴便于安装
2
张力辊
Φ100mm
2
导向辊
Φ80mm
6
2
卷绕系统
卷绕电机系统
交流变频调速电机,减速器等
1
外购
同步带轮传动

1
外购
收放卷传动系统
恒张力、恒线速度控制
2

3
真空机组
分子泵
F400/3500
2
北京
罗茨泵
RTO.600S
1
上海
机械泵
2X-70
2
成都
维持泵
2X-30
1
成都

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