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TFT 的电子沟道是形成于半导体层下方的界面

2012-11-13 14:30阅读:
沟道与源/漏极
字符型模块公司【松山】讲述:MOSFET的载流子沟道所形成的界面,与源/漏极处于同一边,因此,载流子沟道形成后,会直接在连接至源/漏极,而TFT 的电子沟道是形成于半导体层下方的界面,而源/漏极却是在半导体层上方的界面,因此,TFT的电子沟道要连接到源/漏极,必须再经过半导体层厚度,载流子的流动需要经过这个低导电性的区域,因为影响TFT的导电特性。
栅极与源/漏极的重叠
深圳字符型模块小编告诉您:MOSFET的源/漏极掺杂,是利用栅极本身作为掩模,利用离子注入来形成,具有自动对准的效果,栅极与源/漏极之间并不会重叠。而TFT 的源/漏极,是另外用掩模来定义的。TFT 的导通特性包括了半导体层厚度本身造成的电阻,如果栅极与源/漏极之间没有重叠,会造成一段不会形成沟道的距离,形成很大的阻值使其充电能力大幅降低。因此,必须再栅极与源/漏极之间故意地形成重叠,来避免这样的情况。然而,这个故意形成的重叠 ,会使得栅极与源/漏极之间产生寄生电容,造成了许多TFT LCD驱动与设计上的特殊考量。

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